宁波光刻版

掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。

在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。

在半导体制造中，许多芯片工艺步骤采用光刻技术，用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜（也称作“掩模”），其作用是：在硅片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

选定的图像、图形或对象用于阻挡已处理的图像(全部或部分)，以控制图像处理区域或过程。用于覆盖的特定图像或对象称为遮罩或模板。在光学图像处理中，掩模可以是薄膜、滤光器等。在数字图像处理中，光刻版，掩模是二维矩阵阵列，有时也使用多值图像。

因为掩膜版是设计构思和生产制造的关键对接，圆晶生产商常有自身的技术专业加工厂来生产制造本身必须的掩膜版，因而优i秀的掩膜版技术性都是把握在具备优i秀圆晶生产制造焊锡的晶圆厂手上。但近些年掩膜版业务外包的发展趋势十分的显著，非常是针对某些60nm及90nm左右焊锡的中低端商品。业务外包的掩膜版市场占有率从2003年里的30%升高至2014年的53%。

宁波光刻版由苏州微麦光电有限公司提供。“光电材料,仪器仪表”就选苏州微麦光电有限公司（www.szphotomask.com），公司位于：苏州工业园区星湖街328号崇文路国华大厦B418室，多年来，苏州制版坚持为客户提供好的服务，联系人：马经理。欢迎广大新老客户来电，来函，亲临指导，洽谈业务。苏州制版期待成为您的长期合作伙伴！